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16 de Junio de 2009
Un estudio realizado al amparo del proyecto ARTDECO, publicado en el último número de la prestigiosa revista Vacuum.
CONTROL OF THE SUBSTRATE BIAS IN DC PVD PROCESSES USING INSULATOR SUBSTRATES
El trabajo estudia la influencia de la aplicación de una rejilla de polarización sobre la pureza de color de recubrimientos PVD aplicados sobre substratos cerámicos.
El último número de la prestigiosa revista Vacuum incluye un artículo donde se recogen algunos resultados obtenidos dentro del proyecto ARTDECO. El trabajo, llevado a cabo por investigadores del Grupo de Capas Finas e Ingeniería de Superficies de la Universidad de Barcelona dentro de la actividad AI del proyecto (Procesos de PVD sobre substratos cerámicos), supone una profundización en el análisis de los resultados presentados previamente en la 7th Iberian Vacuum Meeting & 5th European Topical Conference on Hard Coatings.
En artículo estudia la influencia de la aplicación de un voltaje de polarización sobre la pureza de color de recubrimientos aplicados sobre substratos cerámicos de la empresa TORRECID S.A.. Mediante este trabajo ha quedado demostrado como el uso de una rejilla de polarización es un método sencillo y eficaz para controlar el bombardeo iónico durante el crecimiento de recubrimientos sobre substratos aislantes, tarea que no siempre resulta fácil, pudiendose obtener recubrimientos con tonalidades muy cercanas a las del oro puro y regulables adecuadamente en función del bias aplicado.
La revista internacional Vacuum publica artículos de gran calidad sobre los últimos avances en técnologías que hacen uso de bajas presiones (vacío), cubriendo de manera interdisciplinar desde los aspectos más fundamentales de la ciencia del vacío hasta procesos y sistemas industriales. El reconocimiento que dicha publicación ha hecho al proyecto ARTDECO mediante la inclusión de este estudio en su último número es una muestra fehaciente de la alta calidad de las investigaciones llevadas a cabo en este proyecto.
Para más información:
Control of the substrate bias in dc PVD processes using insulator substrates
